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Elektronenstrahllithographie-Maschine EBL
,Elektronenstrahllithographie-Scanmikroskop
,Lithografische Maschine OPTO-EDU A63.7010
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StandardausrüstungLaser-Interferometer-Stufe
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Bühnenreisen≤105 mm
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Bildauflösung≤1nm@15kV; ≤1,5 nm bei 1 kV
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Strahlstromdichte>5300 A/cm2
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Minimale Strahlfleckgröße≤2 nm
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ElektronenstrahlverschlussAnstiegszeit < 100 ns
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HerkunftsortChina
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MarkennameCNOEC, OPTO-EDU
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ZertifizierungCE,
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ModellnummerA63.7010
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Dokument
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Min Bestellmenge1 Stk
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PreisFOB $1~1000, Depend on Order Quantity
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Verpackung InformationenKarton-Verpackung, für den Export Transport
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Lieferzeit180 Tage
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ZahlungsbedingungenT/T, West Union, Paypal
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Versorgungsmaterial-Fähigkeit5000 PC Monat
OPTO-EDU A63.7010 EBL Elektronenstrahl-Lithographiegerät
| Bühnenspezifikationen | |
| Standardausrüstung | Laser-Interferometer-Bühne |
| Bühnenweg | ≤105 mm |
| Elektronenkanone und Bildgebungsspezifikationen | |
| Schottky-Feldemissionskanone | Beschleunigungsspannung 20V~ 30kV Seiten-Sekundärelektronendetektor und In-Lens-Elektronendetektor |
| Bildauflösung | ≤1nm@15kV; ≤1,5nm@1kV |
| Strahldicht | >5300 A/cm2 |
| Minimaler Strahldurchmesser | ≤2 nm |
| Lithographiespezifikationen | |
| Elektronenstrahl-Shutter | Anstiegszeit < 100 ns |
| Schreibfeld | ≤500x500 um |
| Minimale Einzelbelichtungslinienbreite | 10±2nm |
| Scan-Geschwindigkeit | 25 MHz/ 50 MHz |
| Grafikgenerator-Parameter | |
| Steuerkern | Hochleistungs-FPGA |
| Maximale Scan-Geschwindigkeit | 50 MHz |
| D/A-Auflösung | 20-Bit |
| Unterstützte Schreibfeldgrößen | 10 um~500 um |
| Strahll-Shutter-Unterstützung | 5VTTL |
| Minimaler Verweilzeit-Inkrement | 10ns |
| Unterstützte Dateiformate | GDSIl, DXF, BMP, etc. |
| Faraday-Napf-Strahldichtemessung | Enthalten |
| Proximity-Effekt-Korrektur | Optional |
| Laser-Interferometer-Bühne | Optional |
| Scan-Modi | Sequenziell (Z-Typ), Serpentinen (S-Typ), Spiral und andere Vektor-Scan-Modi |
| Belichtungsmodi | Unterstützt Feldkalibrierung, Feldstitching, Overlay und automatische Mehrschichtbelichtung |
| Unterstützung externer Kanäle | Unterstützt Elektronenstrahl-Scanning, Bühnenbewegung, Strahll-Shutter-Steuerung und Sekundärelektronendetektion |
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Laser-Interferometer-Bühne Laser-Interferometer-Bühne: Eine fortschrittliche Laser-Interferometer-Bühne, die die Anforderungen für großhubige, hochpräzise Stitching- und Overlay-Anwendungen erfüllt |
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Feldemissionskanone Eine hochauflösende Feldemissionskanone ist eine wichtige Garantie für die Lithographiequalität |
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Grafikgenerator Ermöglicht ultra-hochauflösendeMusterzeichnung bei gleichzeitiger Gewährleistung von ultra-hoher Scan-Geschwindigkeit |
| A63.7010 VS Raith 150 Two | ||
| Gerätemodell | OPTO-EDU A63.7010 (China) | Raith 150 Two (Deutschland) |
| Beschleunigungsspannung (kV) | 30 | 30 |
| Min. Strahldurchmesser (nm) | 2 | 1,6 |
| Bühnengröße (Zoll) | 4 | 4 |
| Minimale Linienbreite (nm) | 10 | 8 |
| Stitching-Genauigkeit (nm) | 50(35nm) | 35 |
| Overlay-Genauigkeit (nm) | 50(35nm) | 35 |
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