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High Resolution Digital Scanning Optical Microscope Huge Sample Stage

Digital-Scannen-optisches Mikroskop-enormes Beispielstadium der hohen Auflösung

  • Hervorheben

    optisches Mikroskop des Scannens der hohen Auflösung

    ,

    enormes Beispielstadium

  • Auflösung
    3 nm bei 30 kV (SE); 6 nm bei 30 kV (BSE)
  • Vergrößerung
    450000x
  • Elektronenkanone
    Wolfram-Glühkathoden-vorzentrierte Wolfram-Filamentkartusche
  • Beschleunigungsspannung
    0~30KV
  • Objektive Öffnung
    Einstellbares Außenvakuumsystem mit Molybdän-Blende
  • Probenbühne
    Fünf-Achsen-Bühne
  • Herkunftsort
    China
  • Markenname
    OPTO-EDU
  • Zertifizierung
    CE, Rohs
  • Modellnummer
    A63.7069
  • Dokument
  • Min Bestellmenge
    1 pc
  • Preis
    FOB $1~1000, Depend on Order Quantity
  • Verpackung Informationen
    Karton-Verpackung, für den Export Transport
  • Lieferzeit
    5 ~ 20 Tage
  • Zahlungsbedingungen
    T/T, West Union, Paypal
  • Versorgungsmaterial-Fähigkeit
    5000 PC Monat

Digital-Scannen-optisches Mikroskop-enormes Beispielstadium der hohen Auflösung

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A63.7069 Hauptaufgabe der Software
Regulierung des Hochdrucks Vertikaler Linienscan Potenzielle Schichtregelung
Regulierung der Filamentströmung Anpassung des Kondensators Mehrskala-Messung
Astigmatische Anpassung Elektrische Anpassung an die Zentrale Automatische Helligkeit / Kontrast
Einstellung der Helligkeit Einstellung der Objektive Autofokussierung
Anpassung des Kontrastes Foto Vorschau Automatische Eliminierung des Astigmatismus
Vergrößerungsanpassung Aktiver Lineal Automatische Filamentanpassung
Ausgewählter Bereichsscannermodus 4 Einstellung der Scangeschwindigkeit Verwaltung von Parametern
Punktescanning-Modus Inversion der Objektivlinse Bildschnappschuss, Bildfrieren
Oberflächenscanning Umkehrung des Kondensators Ein Schlüssel zum Schnellen Blick
Horizontales Linienscannen Elektrische Drehregelung  


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SEM A63.7069
A63.7069-L
Die Kommission wird die folgenden Maßnahmen ergreifen:
A63.7080
A63.7080-L
A63.7081
Entschließung 3nm@30KV (SE)
6nm@30KV (BSE)
1.5nm@30KV ((SE)
3nm@30KV (BSE)
1.0nm@30KV(SE)
3.0nm@1KV ((SE)
2.5nm@30KV (BSE)
Vergrößerung 1x bis 450000x,Negative wahre Vergrößerung 1x~600000x, negative wahre Vergrößerung 1x ~ 3000000x Negative wahre Vergrößerung
Elektronenpistole Vorzentrierte Wolframfilamentpatrone Schottky-Feld-Emissionspistole Schottky-Feld-Emissionspistole
Spannung Beschleunigungsspannung 0.2- Ich weiß.30 kV, kontinuierlich einstellbar, Einstellschritt 100V@0-10Kv, 1KV@10-30KV
Schnelle Ansicht Eine Schlüssel-Schnellansicht-Bildfunktion N/A N/A
Linsensystem Drei-Ebenen-elektromagnetische Spitzenlinse Mehrstufige elektromagnetische Spitzenlinsen
Öffnung 3 Molybdän Objektivöffnungen, außerhalb des Vakuumsystems verstellbar, keine Notwendigkeit, Objektiv zu demontieren, um die Öffnung zu ändern
Vakuumsystem 1 Turbomolekulare Pumpe
1 Mechanische Pumpe
Probenraum Vakuum>2,6E-3Pa
Elektronenpistolenraum Vakuum> 2,6E-3Pa
Voll automatische Vakuumsteuerung
Funktion für die Vakuumverriegelung

Zusätzliches Modell: A63.7069-LV
1 Turbomolekulare Pumpe
2Mechanische Pumpen
Probenraum Vakuum>2,6E-3Pa
Elektronenpistolenraum Vakuum> 2,6E-3Pa
Voll automatische Vakuumsteuerung
Funktion für die Vakuumverriegelung

Niedriges VakuumBereich 10 ~ 270 Pa für Schnellschalter in 90 Sekunden für BSE ((LV)
1 Ionenpumpen-Set
1 Turbomolekulare Pumpe
1 Mechanische Pumpe
Probenraum Vakuum> 6E-4Pa
Elektronenpistolenraum Vakuum>2E-7 Pa
Voll automatische Vakuumsteuerung
Funktion für die Vakuumverriegelung
1 Sputterionenpumpe
1 Getter-Ionenverbindungspumpe
1 Turbomolekulare Pumpe
1 Mechanische Pumpe
Probenraum Vakuum> 6E-4Pa
Elektronenpistolenraum Vakuum>2E-7 Pa
Voll automatische Vakuumsteuerung
Funktion für die Vakuumverriegelung
Detektor SE: Sekundärelektrondetektor mit hohem Vakuum (mit Detektorschutz) SE: Sekundärelektrondetektor mit hohem Vakuum (mit Detektorschutz) SE: Sekundärelektrondetektor mit hohem Vakuum (mit Detektorschutz)
BSE: Halbleiter 4 Segmentierung
Rückstreuungsdetektor
Zusätzlich Zusätzlich
Zusätzliches Modell: A63.7069-LV
BSE (LV): Halbleiter 4 Segmentierung
Rückstreuungsdetektor
   
CCD:Infrarot-CCD-Kamera CCD:Infrarot-CCD-Kamera CCD:Infrarot-CCD-Kamera
Port erweitern 2 Verlängerung der Ports auf den Probenraum für
EDS, BSD, WDS usw.
4 Verlängerung der Ports auf den Probenraum für
BSE, EDS, BSD, WDS usw.
4 Verlängerung der Ports auf den Probenraum für
BSE, EDS, BSD, WDS usw.
Probeentwicklung 5 Achsen Stufe, 4Auto+ 1HandbuchKontrolle
Reisebereich:
X = 70 mm, Y = 50 mm, Z = 45 mm,
R=360°, T=-5°~+90° (Handbuch)
Berühren Sie die Alarmierungs- und Stoppfunktion

Optionales Modell:

A63.7069-L5 Achsen Auto Große Bühne
5 AchsenAuto MittlererBühne
Reisebereich:
X = 80 mm, Y = 50 mm, Z = 30 mm,
R=360°, T=-5°~+70°
Berühren Sie die Alarmierungs- und Stoppfunktion

Optionales Modell:

A63.7080-L5 AchsenAuto GroßeBühne
5 AchsenAuto GroßeBühne
Reisebereich:
X = 150 mm, Y = 150 mm, Z = 60 mm,
R=360°, T=-5°~+70°
Berühren Sie die Alarmierungs- und Stoppfunktion
Maximaler Exemplar Durchmesser 175 mm, Höhe 35 mm Durchmesser 175 mm, Höhe 20 mm Durchmesser 340 mm, Höhe 50 mm
Bildsystem Echtes Bild mit maximaler Auflösung 4096 x 4096 Pixel.
Bilddateiformat: BMP (Standard), GIF, JPG, PNG, TIF
Echtes Bild mit maximaler Auflösung 16384 x 16384 Pixel.
Bilddateiformat: TIF (Standard), BMP, GIF, JPG, PNG
Video: Autorecord Digital.AVI Video
Echtes Bild mit maximaler Auflösung 16384 x 16384 Pixel.
Bilddateiformat: TIF (Standard), BMP, GIF, JPG, PNG
Video: Autorecord Digital.AVI Video
Computer und Software PC-Arbeitsstation Win 10 System, mit professioneller Bildanalyse-Software zur vollständigen Kontrolle des gesamten SEM-Mikroskopbetriebs, Computer-Spezifikation nicht weniger als Inter I5 3,2 GHz, 4G-Speicher,24" IPS-LCD-Monitor, 500G Festplatte, Maus, Tastatur
Bildschirm Das Bildniveau ist reichhaltig und sorgfältig, zeigt in Echtzeit Vergrößerung, Lineal, Spannung, Graukurve
Abmessung
& Gewicht
Mikroskopkörper 800x800x1850mm
Arbeitstisch 1340x850x740mm
Gesamtgewicht 400 kg
Mikroskopkörper 800x800x1480mm
Arbeitstisch 1340x850x740mm
Gesamtgewicht 450 kg
Mikroskopkörper 1000x1000x1730 mm
Arbeitstisch 1330x850x740mm
Gesamtgewicht 550 kg
Zusätzliches Zubehör
Zusätzliches Zubehör A50. Das ist A50.7002Röntgenstrahlspektrometer mit EDS-Energieverteilung
A50. Das ist A50.7011Ionenspritzbehälter
A50. Das ist A50.7001BSE-Rückstreuende Elektrondetektor
A50. Das ist A50.7002Röntgenstrahlspektrometer mit EDS-Energieverteilung
A50. Das ist A50.7011Ionenspritzbehälter
A50. Das ist A50.7030Motorisierte Steuerung
A50. Das ist A50.7001BSE-Rückstreuende Elektrondetektor
A50. Das ist A50.7002Röntgenstrahlspektrometer mit EDS-Energieverteilung
A50. Das ist A50.7011Ionenspritzbehälter
A50. Das ist A50.7030Motorisierte Steuerung

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A50. Das ist A50.7001 BSE-Detektor Halbleiter-Vier-Segment-Rückstreuungsdetektor;
Erhältlich in Zutaten A+B, Morphologie Info A-B;
Verfügbare Probenbeobachtung ohne Spritzen von Gold;
Erhältlich in beobachteter Unreinheit und Verteilung direkt von der Graustufenkarte.
A50. Das ist A50.7002 EDS (Röntgenlichtdetektor) Silikonnitrid (Si3N4) Fenster zur Optimierung der Röntgenstrahlübertragung mit niedriger Energie für die Analyse von Lichtelementen;
Ausgezeichnete Auflösung und ihre fortschrittliche geräuscharme Elektronik bieten eine hervorragende Durchsatzleistung;
Der kleine Fußabdruck bietet Flexibilität, um die ideale Geometrie und die besten Sammelbedingungen zu gewährleisten.
Die Detektoren enthalten einen 30mm2 Chip.
A50. Das ist A50.7003 EBSD (Backscattered Diffraction of Electron Beams) Der Benutzer könnte die Kristallorientierung, die Kristallphase und die Mikro-Textur von Materialien und die damit verbundene Materialleistung usw. analysieren.
automatische Optimierung der EBSD-Kameraeinstellungen
während der Datenerhebung eine interaktive Echtzeitanalyse durchführen, um maximale Informationen zu erhalten
Alle Daten wurden mit einem Zeittag markiert, der jederzeit eingesehen werden kann.
hohe Auflösung 1392 x 1040 x 12
Scan- und Indexgeschwindigkeit: 198 Punkte/Sekunde, mit Ni als Standard, kann unter der Bedingung von 2~5nA die Indexrate ≥99% gewährleisten;
Funktioniert gut bei niedrigem Lichtstrom und niedriger Spannung von 5 kV bei 100pA
Orientierungsmessgenauigkeit: besser als 0,1 Grad
Verwendung des Triplex-Index-Systems: keine Notwendigkeit, sich auf eine einzige Banddefinition zu verlassen, einfache Indexierung schlechter Musterqualität
Spezielle Datenbank: Spezielle Datenbank der EBSD, die durch Elektronendiffraktion gewonnen wurde: > 400 Phasenstrukturen
Indexfähigkeit: Es kann automatisch alle Kristallmaterialien von 7 Kristallsystemen indexieren.
Die erweiterten Optionen umfassen die Berechnung der elastischen Steifheit, des Taylor-Faktors, des Schmidt-Faktors und so weiter.
A50. Das ist A50.7010 Beschichtungsmaschine Glasschutzhülle: 250 mm; 340 mm hoch;
Glasverarbeitungskammer:
88 mm, 140 mm, 88 mm, 57 mm,
Probe-Stufengröße: 40 mm (maximal);
Vakuumsystem: Molekülpumpe und mechanische Pumpe;
Vakuumdetektion: Pirani-Gage;
Vakuum:besser als 2 x 10-3 Pa;
Vakuumschutz: 20 Pa mit Mikroskala-Ventil;
Bewegung der Probe: Rotation der Ebene, Neigung und Präzision.
A50. Das ist A50.7011 Ionenspritzbehälter Glasverarbeitungskammer: ¥ 100 mm; 130 mm hoch;
Probe-Bühnengröße: 40 mm ((Halten Sie 6 Probe-Tassen)
Goldene Zielgröße: 58 mm*0,12 mm (Dicke);
Vakuumdetektion: Pirani-Gage;
Vakuumschutz: 20 Pa mit Mikroskala-Ventil;
Mittleres Gas: Argon oder Luft mit Argongas, spezieller Luftdurchgang und Gasregulation im Mikroskala.
A50. Das ist A50.7012 Argon-Ionen-Sputter-Beschichtung Die Probe wurde mit Kohlenstoff und Gold unter hohem Vakuum beschichtet.
Drehbarer Probentafel, einheitliche Beschichtung, Partikelgröße ca. 3-5 nm;
Keine Auswahl des Zielmaterials, keine Beschädigung der Proben;
Die Funktionen der Ionenreinigung und des Ionverdünnens können realisiert werden.
A50. Das ist A50.7013 Kritischer Punkt Trockner Innerer Durchmesser: 82 mm, Innenlänge: 82 mm;
Druckbereich: 0 bis 2000 psi;
Temperaturbereich: 0°-50° C (32°-122° F)
A50. Das ist A50.7014 Elektronenstrahllithographie Auf der Grundlage eines Scanning-Elektronenmikroskops wurde ein neuartiges Nano-Expositionssystem entwickelt.
Die Modifikation hat alle Sem-Funktionen beibehalten, um das Nanoskala-Linienbreitenbild zu erzeugen.
Das modifizierte Ebl-System wird in Mikroelektronikgeräten, Optoelektronikgeräten, Quantun-Geräten, Forschung und Entwicklung von Mikroelektroniksystemen eingesetzt.

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A63.7069 Standardverbrauchsmaterialien
1 Wolframfilament Vorzentriert, importiert 1 Schachtel (5 Stück)
2 Probebebecher Durchmesser 13 mm 5 Stück
3 Probebebecher Dia.32mm 5 Stück
4 Kohlenstoffdoppelseitiges Leitband 6 mm 1 Paket
5 Vakuumfett   10 Stück
6 Felllose Stoffe   1 Schlauch
7 Polsterpaste   1 Stück
8 Musterkasten   2 Taschen
9 Baumwollspülung   1 Stück
10 Ölnebelfilter   1 Stück
A63.7069 Standardwerkzeuge und Teile
1 Innerer Sechseckenschlüssel 1.5 mm bis 10 mm 1 Satz
2 Zwischenschrauben Länge 100-120 mm 1 Stück
3 Schraubenzieher mit Schlitz 2*50 mm, 2*125 mm 2 Stück
4 Kreuzschraubenzieher 2*125 mm 1 Stück
5 Zwerchfellentferner   1 Stück
6 Reinigungsstange   1 Stück
7 Werkzeug zur Filamentanpassung   1 Stück
8 Filamentverstellungsdichtung   3 Stück
9 Rohr-Extraktor   1 Stück
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