Flaches scannendes Atomkraft-Mikroskop
- Bockscannenkopfentwurf, Marmorbasis, Vakuumaufnahmestadium, Mustergröße und Gewicht sind- im Allgemeinen unbegrenzt
- A62.4510 + dreiachsiger unabhängiger Druckschieberegelscanner, der mit hoher Präzision in einer breiten Palette scannen kann
- Fütterungsmethode der intelligenten Nadel mit automatischer Entdeckung der Motor-kontrollierten piezoelektrischen Keramik, zum von Sonden und von Proben zu schützen
- Automatische optische Positionierung, kein Bedarf, um Fokus zu justieren, Realzeitbeobachtung und Positionierung des Sondenbeispielüberprüfungsbereichs
- Ausgerüstet mit geschlossenem Metallschild, pneumatische stoßdämpfende Tabelle, starke Entstörungsfähigkeit
◆Das erste Handelsatomkraftmikroskop in China, zum des kombinierten beweglichen Scannens der Sonde und der Probe zu verwirklichen;
◆Das erste in China, zum einer dreiachsigen unabhängigen piezoelektrischen Schiebescannenregeltabelle zu benutzen, um umfangreiches Hochpräzisionsscannen zu erzielen;
◆Dreiachsiges unabhängiges Scannen, XYZ beeinflußt sich nicht, sehr passend für dreidimensionale Material- und Topographieentdeckung;
◆Elektrische Steuerung des Beispielder beweglichen Tabelle und -Hubtischs, die mit Mehrpunktposition programmiert werden kann, schnelle automatische Entdeckung zu verwirklichen;
◆Bockscannenkopfentwurf, Marmorbasis, Vakuumaufnahme und magnetisches Aufnahmestadium;
◆Der Motor Steuerung die Fütterungsmethode der intelligenten Nadel der piezoelektrischen keramischen automatischen Entdeckung, um die Sonde und die Probe zu schützen;
◆Zusätzliche optische Mikroskoppositionierung der hohen linearen Wiedergabe, Realzeitbeobachtung und Positionierung der Sonde und des Beispielüberprüfungsbereichs;
◆Das piezoelektrische Überprüfungsregelstadium erfordert nicht nichtlineare Korrektur, und die Nanometerkennzeichnungs- und -maßgenauigkeit ist besser als 99,5%.
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A62.4510 |
A62.4511 |
Arbeits-Modus |
Kontakt-Modus Klopfender Modus
[Optional] Reibungs-Modus Phasen-Modus Magnetischer Modus Elektrostatischer Modus |
Kontakt-Modus Klopfender Modus
[Optional] Reibungs-Modus Phasen-Modus Magnetischer Modus Elektrostatischer Modus |
Gegenwärtige Spektrum-Kurve |
RMS-Z Kurve F-Z Force Curve |
RMS-Z Kurve F-Z Force Curve |
X-Yscan-Modus |
Sonde gefahrenes Scannen, Piezo Rohr-Scanner |
Probe gefahrenes Scannen, Endlosschleifen-piezoelektrisches Schiebescannen-Stadium |
X-Yarbeitsbereich |
70×70um |
Endlosschleife 100×100um |
X-Yscan-Entschließung |
0.2nm |
Endlosschleife 0.5nm |
Z-Scan-Modus |
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Sonde gefahrenes Scannen |
Z-Arbeitsbereich |
5um |
5um |
Z-Scan-Entschließung |
0.05nm |
0.05nm |
Scangeschwindigkeit |
0.6Hz~30Hz |
0.6Hz~30Hz |
Scan-Winkel |
0~360° |
0~360° |
Beispielgewicht |
≤15Kg |
≤0.5Kg |
Stadiums-Größe |
Dia.100mm
[Optional] Dia.200mm Dia.300mm |
Dia.100mm
[Optional] Dia.200mm Dia.300mm |
Stadiums-x-ybewegen |
100x100mm, Entschließung 1um
[Optional] 200x200mm 300x300mm |
100x100mm, Entschließung 1um
[Optional] 200x200mm 300x300mm |
Bewegen des Stadiums-Z |
15mm, Entschließung 10nm [Optional] 20mm 25mm |
15mm, Entschließung 10nm [Optional] 20mm 25mm |
Stoßdämpfender Entwurf |
Frühlings-Suspendierung
[Optional] Aktiver Stoßdämpfer |
Frühlings-Suspendierung
[Optional] Aktiver Stoßdämpfer |
Optisches System |
Objektives 5x 5.0M Digital Camera
[Optional] Objektives 10x Objektives 20x |
Objektives 5x 5.0M Digital Camera
[Optional] Objektives 10x Objektives 20x |
Ertrag |
USB2.0/3.0 |
USB2.0/3.0 |
Software |
Gewinn XP/7/8/10 |
Gewinn XP/7/8/10 |
Hauptteil |
Bock-Scan-Kopf, Marmorbasis |
Bock-Scan-Kopf, Marmorbasis |
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Mikroskop |
Optisches Mikroskop |
Elektronenmikroskop |
Überprüfungssonden-Mikroskop |
Max Resolution (um) |
0,18 |
0,00011 |
0,00008 |
Anmerkung |
Ölkapselungs-1500x |
Darstellungsdiamant-Kohlenstoffatome |
Darstellungshöherwertig Graphitkohlenstoffatome |
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Sonde-Proben-Interaktion |
Maß-Signal |
Informationen |
Kraft |
Elektrostatische Kraft |
Form |
Tunnel-Strom |
Gegenwärtig |
Form, Leitfähigkeit |
Magnetische Kraft |
Phase |
Magnetische Struktur |
Elektrostatische Kraft |
Phase |
Ladungsverteilung |
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Entschließung |
Arbeitsbedingung |
Arbeits-Temperation |
Zu probierendes Damge |
Inspektions-Tiefe |
SPM |
Atom Level 0.1nm |
Normal, flüssig, Vakuum |
Raum oder niedriges Temperation |
Kein |
1~2 Atom Level |
TEM |
Punkt 0.3~0.5nm Gitter 0.1~0.2nm |
Hochvakuum |
Raum Temperation |
Klein |
Normalerweise <100nm>
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SEM |
6-10nm |
Hochvakuum |
Raum Temperation |
Klein |
10mm @10x 1um @10000x |
FIM |
Atom Level 0.1nm |
Superhochvakuum |
30~80K |
Damge |
Atom Thickness |
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