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Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd. 0086-13911110627 sale@optoedu.com
Opto Edu A63.7069 Scanning Electron Microscope Instrument Std 8x~300000x

Opto Edu A63.7069 Rasterelektronenmikroskop-Instrument-Geschlechtskrankheit 8x~300000x

  • Markieren

    Opto edu Rasterelektronenmikroskopinstrument

    ,

    300000x Rasterelektronenmikroskopinstrument

  • Entschließung
    3nm@30KV (SE); 6nm@30KV (BSE)
  • Lineare Wiedergabe
    Negative lineare Wiedergabe: 8x~300000x; Schirm-lineare Wiedergabe: 12x~600000x
  • Elektronenkanone
    Wolframerhitzte Kathode-Vor zentrierte Wolframfaden-Patrone
  • Beschleunigen
    0~30KV
  • Objektive Öffnung
    Molybdän-Öffnung justierbar außerhalb der Vakuum-Anlage
  • Objektträger
    Fünf Axt-Stadium
  • Herkunftsort
    China
  • Markenname
    CNOEC, OPTO-EDU
  • Zertifizierung
    CE, Rohs
  • Modellnummer
    A63.7069
  • Min Bestellmenge
    1 pc
  • Preis
    FOB $1~1000, Depend on Order Quantity
  • Verpackung Informationen
    Karton-Verpackung, für den Export Transport
  • Lieferzeit
    5 ~ 20 Tage
  • Zahlungsbedingungen
    T / T, West Union, Paypal
  • Versorgungsmaterial-Fähigkeit
    5000 PC Monat

Opto Edu A63.7069 Rasterelektronenmikroskop-Instrument-Geschlechtskrankheit 8x~300000x

8x~300000x mit Detektor SED+BSED+CCD, fünf Äxte inszenieren (Selbst-X/Y, Handbuch Z/R/T)
  • Ausbaufähiges LaB6, Röntgenstrahl-Detektor, EBSD, CL, WDS, Beschichtungs-Maschine und etc.
  • Multi Änderung EBL, STM, AFTM, Heatign-Stadium, Cryo-Stadium, dehnbares Stadium, SEM+Laser und etc.
  • Selbstkalibrierung, fehlerhafte Selbstentdeckung, niedrige Kosten für halten instand u. reparieren
  • Einfache u. freundliche Operations-Schnittstelle, ganz gesteuert durch Maus in Computer-Windows-System (eingeschlossen)
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Hauptfunktion der Software-A63.7069
Hochdruckregelung Vertikale Linie Scan Mögliche Schieberegelung
Heizstromregelung Kondensatoranpassung Multi Skalamaß
Astigmatische Anpassung Elektrisch zur zentralen Anpassung Automatische Helligkeit/Kontrast
Helligkeitsanpassung Objektivanpassung Selbstfokus
Kontrastregulierung Foto-Vorschau Automatische Astigmatismusbeseitigung
Anpassung der linearen Wiedergabe Aktiver Machthaber Automatische Fadenanpassung
Scannenmodus des vorgewählten Bereichs Einstellung der Abtastgeschwindigkeit 4 Management von Parametern
Punktscannenmodus Objektivumstellung Bildschnappschuß, Bildeinfrieren
Oberflächenscannen Kondensatorumkehrung Eine Schlüsselschnellansicht
Horizontale Linie Scannen Elektrische Rotationsanpassung  
 

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SEM A63.7069 A63.7080 A63.7081
Entschließung 3nm@30KV (SE)
6nm@30KV (BSE)
1.5nm@30KV (SE)
3nm@30KV (BSE)
1.0nm@30KV (SE)
3.0nm@1KV (SE)
2.5nm@30KV (BSE)
Lineare Wiedergabe negativ-truelineare wiedergabe 8x~300000x negativ-truelineare wiedergabe 8x~800000x negativ-truelineare wiedergabe 6x~1000000x
Elektronenkanone Vor-zentrierte Wolframfaden-Patrone Schottky-Feld-Emissions-Gewehr Schottky-Feld-Emissions-Gewehr
Spannung Beschleunigungsspannung 0~30KV, ununterbrochenes justierbares, justieren Schritt 100V@0-10Kv, 1KV@10-30KV
Schnellansicht Eine Schlüsselschnellansicht-Bild-Funktion N/A N/A
Linsensystem Drei-Niveaus elektromagnetische sich verjüngende Linse Multi-Niveaus elektromagnetische sich verjüngende Linse
Öffnung 3 Molybdän-objektive Öffnungen, justierbare Außenseite der Vakuum-Anlage, kein Bedarf bauen Ziel auseinander, um Öffnung zu ändern
Vakuum-Anlage 1 molekulare Pumpe Turbos
1 mechanische Pumpe
Beispielraum Vacuum>2.6E-3Pa
Elektronenkanone-Raum Vacuum>2.6E-3Pa
Völlig Selbstvakuumsteuerung
Vakuumverriegelungs-Funktion

Optionales Modell: A63.7069-LV
1 molekulare Pumpe Turbos
2 mechanische Pumpen
Beispielraum Vacuum>2.6E-3Pa
Elektronenkanone-Raum Vacuum>2.6E-3Pa
Völlig Selbstvakuumsteuerung
Vakuumverriegelungs-Funktion
Grobvakuum-Strecke 10~270Pa für schnellen Schalter in 90 Sekunden für BSE (LV)
1 Ion Pump Set
1 molekulare Pumpe Turbos
1 mechanische Pumpe
Beispielraum Vacuum>6E-4Pa
PA des Elektronenkanone-Raum-Vacuum>2E-7
Völlig Selbstvakuumsteuerung
Vakuumverriegelungs-Funktion
1 spritzen Sie Ion Pump
1 Empfänger Ion Compound Pump
1 molekulare Pumpe Turbos
1 mechanische Pumpe
Beispielraum Vacuum>6E-4Pa
PA des Elektronenkanone-Raum-Vacuum>2E-7
Völlig Selbstvakuumsteuerung
Vakuumverriegelungs-Funktion
Detektor Se: Hochvakuum-Sekundärelektron-Detektor (mit Detektor-Schutz) Se: Hochvakuum-Sekundärelektron-Detektor (mit Detektor-Schutz) Se: Hochvakuum-Sekundärelektron-Detektor (mit Detektor-Schutz)
BSESegmentation des Halbleiter-4
Rückstreuungs-Detektor

Optionales Modell: A63.7069-LV
BSE (LV)Segmentation des Halbleiter-4
Rückstreuungs-Detektor
Optional Optional
CCD: Infrarotcd-kamera CCD: Infrarotcd-kamera CCD: Infrarotcd-kamera
Verlängern Sie Port 2 verlängern Sie Häfen auf Beispielraum für
EDS, Bd, WDS etc.
4 verlängern Sie Häfen auf Beispielraum für
BSE, EDS, Bd, WDS etc.
4 verlängern Sie Häfen auf Beispielraum für
BSE, EDS, Bd, WDS etc.
Objektträger 5 Axt-Stadium, manuelle Steuerung 4 Selbst-+1
Reise-Strecke:
X=70mm, Y=50mm, Z=45mm,
R=360°, T=-5°~+90° (Handbuch)
Noten-Alarm u. Endfunktion
5 Axt-mittleres Selbststadium
Reise-Strecke:
X=80mm, Y=50mm, Z=30mm,
R=360°, T=-5°~+70°
Noten-Alarm u. Endfunktion

Optionales Modell:
A63.7080-M 5 behaut manuelles Stadium
A63.7080-L 5 behaut großes Selbststadium
5 Axt-großes Selbststadium
Reise-Strecke:
X=150mm, Y=150mm, Z=60mm,
R=360°, T=-5°~+70°
Noten-Alarm u. Endfunktion
Max Specimen Dia.175mm, Höhe 35mm Dia.175mm, Höhe 20mm Dia.340mm, Höhe 50mm
Bild-System Wirkliche Pixel Standbild-Max Resolutions 4096x4096,
Bild-Dateiformat: BMP (Nichterfüllung), GIF, JPG, png, TIF
Wirkliche Pixel Standbild-Max Resolutions 16384x16384,
Bild-Dateiformat: TIF (Nichterfüllung), BMP, GIF, JPG, png
Video: Selbstaufzeichnung Digital. AVI Video
Wirkliche Pixel Standbild-Max Resolutions 16384x16384,
Bild-Dateiformat: TIF (Nichterfüllung), BMP, GIF, JPG, png
Video: Selbstaufzeichnung Digital. AVI Video
Computer u. Software System des PC Arbeitsplatz-Gewinn-10, mit der Berufsbildanalyse-Software, zum von ganzem SEM Microscope Operation völlig zu steuern, Computer-Spezifikation nicht weniger als Inter- I5 3.2GHz, 4G Gedächtnis, 24" Monitor IPS LCD, 500G Festplatte, Maus, Tastatur
Foto-Anzeige Das Bild-Niveau ist Rich And Meticulous und zeigt Realzeitlineare wiedergabe, Machthaber, Spannung, Gray Curve
Maß
U. Gewicht
Mikroskop-Körper 800x800x1850mm
Funktions-Tabelle 1340x850x740mm
Gesamtgewicht 400Kg
Mikroskop-Körper 800x800x1480mm
Funktions-Tabelle 1340x850x740mm
Gesamtgewicht 450Kg
Mikroskop-Körper 1000x1000x1730mm
Funktions-Tabelle 1330x850x740mm
Gesamtgewicht 550Kg
Optionale Zusätze
Optionale Zusätze Energie-Dispersionsröntgen-spektrometer A50.7002 EDS
A50.7011 Ion Sputtering Coater
Rückstreuungs-Elektron-Detektor A50.7001 BSE
Energie-Dispersionsröntgen-spektrometer A50.7002 EDS
A50.7011 Ion Sputtering Coater
A50.7030 motorisieren Bedienfeld
Rückstreuungs-Elektron-Detektor A50.7001 BSE
Energie-Dispersionsröntgen-spektrometer A50.7002 EDS
A50.7011 Ion Sputtering Coater
A50.7030 motorisieren Bedienfeld
 
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A50.7001 BSE-Detektor Halbleiter-vierteiliger Rückstreuungs-Detektor;
Verfügbar in den Bestandteilen A+B, Morphologie-Informationen A-B;
Verfügbare Probe beobachten ohne Spritzengold;
Verfügbar beobachten Sie herein Verunreinigung und Verteilung von der Grayscale-Karte direkt.
A50.7002 EDS (X Ray Detector) Fenster des Silikon-Nitrid-(Si3N4), zum des niedrige Energie-Röntgenstrahl-Getriebes für helle Element-Analyse zu optimieren;
Ausgezeichnete Entschließung und ihre moderne lärmarme Elektronik hervorragende Durchsatz-Leistung zur Verfügung stellen;
Der kleine Abdruck bietet Flexibilität an, ideale Geometrie-und Aata-Sammlungs-Zustände sicherzustellen;
Die Detektoren enthalten einen Chip 30mm2.
A50.7003 EBSD (Elektronenstrahl-umgekehrte Beugung) Benutzer könnte Kristallrichtung der Analyse, Kristallphase und Mikrobeschaffenheit von Materialien und in Verbindung stehende Materialleistung, etc.
automatische Optimierung von EBSD-Kameraeinstellungen
während der Datenerfassung tun Sie wechselwirkende Realzeitanalyse, um maximale Informationen einzuholen
alle Daten wurden mit Zeitumbau eingebrannt, der jederzeit angesehen werden kann
hohe Auflösung 1392 x X12 1040
Scannen- und Indexgeschwindigkeit: 198 Punkte/sek, mit Ni als dem Standard, unter der Zustand von 2~5nA, kann sie die Indexrate ≥99% sicherstellen;
Arbeiten gut unter der Zustand des niedrigen Strahlstroms und Niederspannung von 5kV an 100pA
messende Genauigkeit der Orientierung: Besser als 0,1 Grad
Unter Verwendung des triplex Indexsystems: kein Bedarf auf einzelne Banddefinition, einfache Index-Bewegung bauen der schlechten Musterqualität
engagierte Datenbank: Spezielle Datenbank EBSD erhalten durch Elektronenbeugung: Struktur der Phase >400
Indexieren Sie Fähigkeit: sie kann alle Kristallmaterialien von 7 Kristallsystemen automatisch indexieren.
Die modernen Wahlen umfassen elastische Steifheit (elastische Steifheit), Faktor Taylors (Taylor), Faktor Schmidts (Schmid) und so weiter berechnen.
A50.7010 Beschichtungs-Maschine Schützendes GlasShell: ∮250mm; 340mm hoch;
Glasverarbeitungskammer:
∮88mm; 140mm Hoch, ∮88mm; 57mm hoch;
Objektträger-Größe: ∮40mm (maximal);
Vakuum-Anlage: molecula Pumpe und mechanische Pumpe;
Vakuumentdeckung: Pirani-Messgerät;
Vakuum: besser als PA 2 x 10-3;
Vakuumschutz: PA 20 mit Mikroskala-Inflations-Ventil;
Exemplar-Bewegung: Flache Rotation, Neigung Precession.
A50.7011 Ion Sputtering Coater Glasverarbeitungskammer: ∮100mm; 130mm hoch;
Objektträger-Größe: ∮40mm (Exemplar-Schalen des Griff-6);
Goldene Ziel-Größe: ∮58mm*0.12mm (Stärke);
Vakuumentdeckung: Pirani-Messgerät;
Vakuumschutz: PA 20 mit Mikroskala-Inflations-Ventil;
Mittleres Gas: Argon oder Luft mit Argon-Gas-speziellem Lufteinlauf und Gas, das in der Mikroskala sich reguliert.
A50.7012 Argon Ion Sputtering Coater Die Probe wurde mit Kohlenstoff und Gold unter Hochvakuum überzogen;
Drehbare Beispieltabelle, einheitliche Beschichtung, Teilchengröße über 3-5nm;
Keine Auswahl des Ziel-Materials, kein Schaden der Proben;
Die Funktionen von Ion Cleaning And Ion Thinning können verwirklicht werden.
A50.7013 Kritischer Punkt-Trockner Innerer Durchmesser: 82mm, innere Länge: 82mm;
Druck-Strecke: 0-2000psi;
Temperaturspanne: 0°-50° C (32°-122° F)
A50.7014 Elektronenstrahl-Lithographie Basiert auf Rasterelektronenmikroskop, wurde ein neues Nano--Belichtung System entwickelt;
      Das Modificaton hat alle das Sem Functions For Making Nanoscale-Linienbreite-Bild gehalten;
Das System Widly Modificated Ebl angewendet in Mikroelektronische Geräte, optoelektronische Geräte, Quantun-Geräte, Mikroelektronik-System R&d.
 
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Standardausstattung der verbrauchsmaterial-A63.7069
1 Wolframfaden Vor-zentriert, importiert 1 Kasten (5 PC)
2 Beispielschale Dia.13mm 5 PC
3 Beispielschale Dia.32mm 5 PC
4 Kohlenstoff-doppelseitiges leitfähiges Band 6mm 1 Paket
5 Vakuumfett   10 PC
6 Unbehaarter Stoff   1 Rohr
7 Polierpaste   1 PC
8 Beispielkasten   2 Taschen
9 Wattestäbchen   1 PC
10 Öl-Nebel-Filter   1 PC
Statten Standardwerkzeuge A63.7069 u. Teile aus
1 Innerer Hexagon-Schlüssel 1.5mm~10mm 1 Satz
2 Pinzette Länge 100-120mm 1 PC
3 Gekerbter Schraubenzieher 2*50mm, 2*125mm 2 PC
4 Querschraubenzieher 2*125mmm 1 PC
5 Membranentferner   1 PC
6 Reinigungs-Rod   1 PC
7 Faden-Anpassungs-Werkzeug   1 PC
8 Faden, der Dichtung justiert   PC 3
9 Rohr-Auszieher   1 PC
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